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⾯向半导体光刻掩模版应⼒及

项目内容
**成果单位**电⼦科技⼤学
**产业领域**先进材料
**合作方式**拟合作⾦额(以后续实际为准,万元):技术许可,5000

项目简介

围绕半导体光刻掩模版微纳缺陷与应⼒检测精度迈向纳⽶量级的⾏业新需求,独创基于光谱-电谱映

射原理的⽆损伤⽚上⾼频检测技术,测试频率达40GHz以上,分辨率精确⾄1kHz,且⽆需真空环境

和接触式探针,可⽤于满⾜先进制程掩模版在线质量检测与精准⼯艺控制需求。

联系⼈:李⽼师18683578662

成果输出单位:电⼦科技⼤学

*来源:2026年第一批成果找市场揭榜挂帅高层次人才专场项目手册*